安泰科技高纯稀有金属靶材项目获国家补助

发布时间：2012/7/20 2:08:25

    安泰科技拟投资建设的“大尺寸高纯稀有金属靶材项目”被列入国家发改委、财政部、工信部稀土稀有金属新材料研发和产业化专项，并获得4000万元的国家战略性新兴产业发展专项补助资金。据了解，作为国内金属新材料领军企业之一的安泰科技，金属靶材是公司“十二五”战略规划期间大力发展的产业，“大尺寸高纯稀有金属靶材项目”将主要采用先进的热等静压、真空热压、超大尺寸靶材烧结等核心技术，实现大尺寸高纯Mo靶和WTi靶的产业化。公司方面表示，国家专项补助资金将有助于安泰科技在该领域实现更大发展。

　　据介绍，安泰科技此次拟投资的大尺寸高纯稀有金属靶材项目，初步计划总投资1.63亿元，项目建设期为24个月，主要依托公司在难熔金属材料的技术积淀，将现有产品规模化，围绕大尺寸高纯钼靶和高纯度钨钛靶这两类高端稀有金属靶材进行产业化。

　　大尺寸高纯稀有金属靶材目前应用广泛，市场前景非常广阔。据悉，近年来，由于便携式个人计算机、电视机、手机等对平板显示器件的巨大需求，作为平板显示产业主流技术的薄膜晶体管液晶平板显示器（TFT-LCD）技术得到了迅猛发展。全球TFT-LCD生产厂家主要集中在中国内地、台湾、韩国和日本等亚洲地区，占有全球90%的显示器市场份额。

　　行业分析机构预测，至2015年将有13条8.5代的液晶生产线出现在中国内地，将有1500亿元的投资进入中国液晶制造业。钼靶材作为制备平面显示金属电极用材料，市场需求大，全球市场每年约为10亿元。此外，电子芯片的封装，大多采用COF封装技术，需要使用高纯钨钛合金靶材进行溅射镀膜，全世界仅LCD用的控制芯片使用靶材，每年市场销售超过5亿元。溅射薄膜太阳能电池的制备也需要高纯钨钛靶、大尺寸高纯钼靶，仅2009年1GW的薄膜太阳能电池就需求溅射靶材超过20亿元。